超纯水是为了研制超纯资料(半导体原件资料、纳米精密陶瓷资料等)运用蒸馏、去离子化、反渗透技能或其它适当的超临界精密技能出产出来的水,不宜饮用。 这样的水是一般工艺很难到达的程度,应该运用超纯水设备进行制备。专业的超纯水设备由预处理(多介质过滤+超滤设备)体系+反渗透体系+EDI电除盐体系+抛光混床体系组成,保证出水水质满足18.2MΩ·cm电子级水产水指标。
半导体业由于技能发展迅速、市场变化大,其出产能力具有波动性。所以,要求与之配套的半导体纯水体系要有一定的可调节性、留有合理的余量,对超纯水设备供水的灵活性,安全性,及时性,提出了更高的要求。莱特莱德半导体纯水体系投入运转后,可以出产出合格的电阻率为18MQ *CM的超纯水,为半导体用水供给用水保障。
超纯水设备成果英勇的“芯” 芯片制作的每一道工序都离不开超纯水,只要水质纯洁了,才能保证每一步的正常运转。超纯水设备为芯片制作保驾护航。传统超纯水制备工艺一般运用离子交换树脂,但离子交换树脂的运用一般需求定期的树脂再生,这既耗费材料又耗费人力。超纯水设备选用超纯水设备选用反渗透工艺,或选用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床出产超纯水,以保证出水水质符合职业标准,满足芯片职业用水需求,成果英勇的“芯”。